Proceedings of the 1999 7th International Symposium on Physical and Failure Analysis of Integrated Circuits; Singapore, Singapore; 5 July 1999 through 9 July 1999; Code 56210
Titolo: | Long Term Noise Measurements to Characterize Electromigration in Metal Lines of ICs |
Autori: | |
Data di pubblicazione: | 1999 |
Abstract: | Proceedings of the 1999 7th International Symposium on Physical and Failure Analysis of Integrated Circuits; Singapore, Singapore; 5 July 1999 through 9 July 1999; Code 56210 |
Handle: | http://hdl.handle.net/11570/1582546 |
ISBN: | 9780780351875 |
Appare nelle tipologie: | 14.d.3 Contributi in extenso in Atti di convegno |
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