Optical and structural properties of silicon carbon nitride thin films deposited by reactive pulsed laser ablation

Neri, Fortunato; Tripodi, P.; Trusso, S.; Faggio, G.

doi:10.1080/10420151003731678

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Optical and structural properties of silicon carbon nitride thin films deposited by reactive pulsed laser ablation / Neri F.; Tripodi P.; Trusso S.; Faggio G.. - In: RADIATION EFFECTS AND DEFECTS IN SOLIDS. - ISSN 1042-0150. - 165(2010), pp. 754-759. ((Intervento presentato al convegno 4th International Workshop on 'Pulsed Plasma Laser Ablation' (PPLA 2009) tenutosi a Monte Pieta, Messina (Italy) nel 18-20 Giugno 2009.

Titolo:	Optical and structural properties of silicon carbon nitride thin films deposited by reactive pulsed laser ablation
Autori:	NERI, Fortunato Tripodi P. Trusso S. Faggio G. mostra contributor esterni nascondi contributor esterni
Data di pubblicazione:	2010
Rivista:	RADIATION EFFECTS AND DEFECTS IN SOLIDS
Handle:	http://hdl.handle.net/11570/1904391
Appare nelle tipologie:	14.a.2 Proceedings in extenso su rivista

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