We describe a new evaporation method for preparing hydrogenated amorphous silicon films under different deposition conditions. The films obtained have characteristics comparable to those prepared by other conventional techniques. Infrared spectra and d.c. electrical conductivity results are reported.

A new evaporation method for preparing hydrogenated amorphous silicon films

GRASSO, Vincenzo;MEZZASALMA, Angela Maria;NERI, Fortunato
1982-01-01

Abstract

We describe a new evaporation method for preparing hydrogenated amorphous silicon films under different deposition conditions. The films obtained have characteristics comparable to those prepared by other conventional techniques. Infrared spectra and d.c. electrical conductivity results are reported.
1982
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